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當前位置：上海添時科學儀器有限公司>>制膜設備>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀
1、可選一個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
技術參數：
| 產品名稱 | VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀 |
| 產品型號 | VTC-600-1HD |
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 |
| 1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） | |
| 2、電：AC220V 50Hz,必須有良好接地 | |
| 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上）,需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥 | |
| 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 | |
| 5、通風裝置：需要 | |
| 主要參數 | 1、電源電壓：220V 50Hz |
| 2、功率：<1KW（不含真空泵） | |
| 3、極限真空度：9.0×10-4Pa | |
| 4、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據實際需要提升溫度） | |
| 5、靶槍數量：1個（可選配其他數量） | |
| 6、靶槍冷卻方式：水冷 | |
| 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） | |
| 8、直流濺射功率：500W;射頻濺射功率：300W.（靶電源種類可選,可選擇直流或射頻電源） | |
| 9、載樣臺：Ø140mm,可根據客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現更高質量的鍍膜。 | |
| 10、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內可調 | |
| 11、工作氣體：Ar等惰性氣體 | |
| 12、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。 | |
| 產品規格 | 1、主機尺寸：500mm×560mm×660mm |
| 2、整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm | |
| 3、重量：160kg | |
| 4、真空室規格：φ300×300mm | |
| 標準配件 | 1、直流電源控制系統1套（可選） |
| 2、射頻電源控制系統1套（可選） | |
| 3、冷水機1臺 | |
| 4、冷卻水管（Ø6mm）4根 | |
| 可選配件 | 1、金、銦、銀、白金等各種靶材 |
| 2、膜厚監測儀系統 | |
| 3、分子泵（德國進口） |
